Europa entra en la era del Ångström
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13:59, 20.03.2026
Europa asegura una ventaja clave en la carrera global de los chips. El centro de investigación belga Imec instalará el nuevo sistema High-NA EUV de ASML. El modelo TWINSCAN EXE:5200 alcanza una apertura numérica de 0,55 y acerca la producción por debajo de 2 nm.
Usted está ante una herramienta que redefine la fabricación. Frente a sistemas EUV anteriores con NA 0,33, permite imprimir estructuras más pequeñas en una sola pasada. Esto reduce la complejidad y mejora el rendimiento. También ofrece mayor precisión y compatibilidad con nuevos fotoresistentes.
Del laboratorio a la industria
Imec y ASML ya lograron líneas de 16 nm en una sola exposición en Veldhoven. Ahora trasladan ese avance a líneas piloto de 300 mm dentro del programa NanoIC.
La puesta en marcha completa está prevista para finales de 2026. La industria europea obtendrá acceso temprano a la tecnología de escala angström.
Por qué esto nos afecta
No se trata solo de nuevo equipamiento. Europa refuerza su posición más allá de los 2 nm.
En nuestra opinión, High-NA EUV influirá en los chips de sus dispositivos, centros de datos y soluciones de IA.
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