Startup china informa sobre la producción de chips fotónicos sin máquinas de litografía de ASML

La empresa china Prinano ha anunciado que ha logrado fabricar con éxito obleas para chips fotónicos de 8 pulgadas sin utilizar los equipos tradicionales de litografía de ultravioleta profundo (DUV). El proyecto se llevó a cabo en colaboración con Shenzhen Litra Technology.

Con esta iniciativa, las empresas chinas pretenden reducir su dependencia de los equipos de litografía suministrados por la empresa holandesa ASML, que están sujetos a restricciones de exportación impuestas por Estados Unidos y otros países.

Una alternativa a los costosos sistemas DUV

En lugar de la litografía DUV convencional, la empresa empleó su tecnología patentada de litografía por nanoimpresión al vacío (NIL), conocida como PL-AS. Según los desarrolladores, el nuevo enfoque puede reducir los costes de producción de chips fotónicos aproximadamente diez veces en comparación con los procesos de fabricación tradicionales.

A diferencia de la litografía DUV o EUV, en la que los patrones de circuitos se transfieren a obleas de silicio utilizando luz y sistemas ópticos, la tecnología NIL funciona mediante impresión física. La plataforma PL-AS utiliza control de presión a nivel de oblea, materiales de impresión de doble capa especialmente diseñados y procesos de fabricación patentados.

Según Prinano, estas tecnologías permiten crear elementos de menos de 10 nanómetros, lo que acerca la plataforma a los requisitos de la fabricación moderna de semiconductores.

Una tecnología con gran potencial y retos

La litografía por nanoimpresión se ha considerado durante mucho tiempo una alternativa prometedora a los métodos tradicionales de fabricación de semiconductores. Ofrece una alta precisión al tiempo que reduce significativamente los costes de producción.

Sin embargo, su adopción generalizada se ha visto obstaculizada durante años por preocupaciones relacionadas con los defectos, el desgaste de los moldes, el rendimiento y la estabilidad de los rendimientos de producción. Debido a estos retos, la mayoría de los fabricantes de chips han seguido confiando en las tecnologías DUV y EUV ya establecidas.

Qué significa para el mercado

Si las capacidades anunciadas se validan en la producción real y se escalan con éxito para la fabricación en masa, China podría ganar otra herramienta para reducir su dependencia de los equipos de semiconductores occidentales. Al mismo tiempo, la litografía por nanoimpresión podría surgir como una alternativa de menor coste para la producción de ciertos tipos de chips fotónicos y semiconductores.